CVD 実績表
| 装置仕様 | 作業雰囲気 | 主な加工内容 | 基板対応サイズ |
|---|---|---|---|
| 常圧CVD | クリーンルーム、 基板洗浄可能 | SiO2、PSG、他 | Φ4"、Φ5" |
| LP-CVD | クリーンルーム、 基板洗浄可能 | poly-Si、他 | Φ2"、Φ3"、Φ4"、Φ6" |
| PE-CVD | クリーンルーム、 基板洗浄可能 | SiO2、SiN | Φ2"、Φ3"、Φ4"、Φ6"、Φ8" |
| クリーンルーム、 基板洗浄可能 | TEOS | Φ4"、Φ5"、Φ6" |
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| 製品分類1 | 成膜・フォトリソ・エッチング |
|---|---|
| 製品分類2 | 絶縁膜 |
| プロセス分類 | 試作・研究開発プロセス |
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